化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。_半导体芯片制造中级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造中级工

题目：填空题
化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
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