危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。
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下列关于气动打磨工具的优缺点，叙述正确的有（）。

煎煮法应在煎煮前先将药材加水浸泡一定时间。()

设备的螺栓、螺柱等坚固件要齐全、紧固，同一部位规格应一致，无松动、脱扣、变形折断现象。螺母要上满扣，螺钉旋入深度不小于螺钉直径。外螺纹余留长度一般在（）扣左右。螺母无损伤，一般配量的垫圈不宜超过（）个。

水稻下表皮气孔器数目1400个／平方厘米，那么每平方厘米有（）。

既在京沪线上又在陇海线上的城市是（）

下列选项中，一般不必编制专项规划的是（）。

患者，男性，35岁，进食油腻食物后突发右上腹绞痛，并向右肩背部放射，既往有类似发作病史。查体：右上腹压痛，Murphy征阳性为进一步确诊，最有效的辅助检查是（）

某钻井泵，理论平均排量为40（l/s），若流量系数为0.98时，实际流量为（）

一个药物可有三种名字，即俗名、化学名称、商品名。

出血性梗死容易发生在（）。