主页
学科
搜索
账户
常见问题
当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。
A . 化学增强
B . 化学减弱
C . 厚度增加
D . 厚度减少
答案:
<查看本题扣1积分>
查看答案
答案不对?请尝试站内搜索
推荐知识点:
脊髓半切损害综合征最常见于()
试述化学致癌物物诱发肿瘤的特点及机体抗肿瘤的免疫机制。
在水平巷道或倾斜巷道内,电缆悬挂点的间距不得超过()米。
RNI制订基础是()
可用于治疗流行性腮腺炎的药物是()
以下属于违法行为的是()
下列步态与疾病对应关系的表述哪项不正确()
许多恒渗生物保持着不同于海水环境的血液浓度
下列构建良好的亲子关系的基本条件中,错误的是()。
下图为我国某区域“日平均气温≥5℃的积温”图,读图回答下列各题。 从图中信息判断,我国该区域的地形特点是() 图中我国境内最不可能遭遇的自然灾害是()