当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。

      A . 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
      B . 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
      C . 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
      D . 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

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