传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。
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