二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。_半导体芯片制造高级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造高级工

题目：填空题
二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。
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