烤瓷冠龈边缘必须高度抛光的主要理由是（）_免疫组织细胞化学技术_全学科试题题库

当前学科：免疫组织细胞化学技术

题目：单选
烤瓷冠龈边缘必须高度抛光的主要理由是（）
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若力的大小为1N，力和位移的夹角为60度，位移的大小为3m，则力对物体做功是（）J。

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引起加热炉燃料气压力突然升高的原因有（）。

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基因表达调控最重要的环节是（）

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