腭裂术后发生创口穿孔(腭瘘)的最主要原因是()_先天性唇、面裂和腭裂_全学科试题题库

当前学科：先天性唇、面裂和腭裂

题目：单选
腭裂术后发生创口穿孔(腭瘘)的最主要原因是()
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图5-8所示的磁电指示机构和带内阻的信号源相连，其转角θ和信号源电压Ui的关系可用二阶微分方程来描述，即设其中动圈部件的转动惯量I=2.5×10-5kg·m2，弹簧刚度k=10-3N·m/rad，线圈匝数n=100，线圈横截面积A=10-4m2，线圈内阻Rc为75Ω，磁通密度B为150Wb/m2(1Wb/m2=1T)和信号源内阻Ri为125Ω。

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