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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
多选
哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。
A . 低温注入
B . 常温注入
C . 高温注入
D . 分子注入
E . 双注入
答案：
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