当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 多选
    哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量:()。

      A . 低温注入
      B . 常温注入
      C . 高温注入
      D . 分子注入
      E . 双注入

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