主页
学科
搜索
账户
常见问题
当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
当热氧化的最初阶段,()为限制反应速率的主要原因。
A . 温度
B . 硅-二氧化硅界面处的化学反应
C . 氧的扩散速率
D . 压力
答案:
<查看本题扣1积分>
查看答案
答案不对?请尝试站内搜索
推荐知识点:
不属于突水事故特有征兆的是()。
可用于脊椎腔注射的是()
异质小组
简述营销策划的特征。
制冷系统放空气应在( )进行 A.运行中 B.停车后及时 C.停车后一段时间 D.任何时间
从1994年1月1日起,我国实行()制,取消外汇分成。
图像通信系统主要由哪些部分组成?
逆行性嵌顿
伸舌
影响战略实施计划的因素包括()。