曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

男性，27岁。心悸、气短，胸闷、胸痛，晕厥。查体：胸骨左缘第3肋间3/6级SM。超声：IVS：LVPWl.5：1，SAM征（+）。超声心动图SAM征指的是（）

红斑丹毒丝菌（）

对脊麻后低脊髓压力性头痛的处理，哪项不当()

男性，65岁。临床诊断左肺癌。在全身麻醉下施行左全肺切除加淋巴结清扫术。病理报告：肺鳞癌，淋巴结转移5／7。该患者的术后放射治疗，下列错误的是（）。

临时查封应当按照哪些程序决定和实施？

旅游职业道德的特点有（）

某船沿赤道航行，已知计程仪改正率0.0%，无航行和推算误差，则实际船位比在海图上按计程仪航程推算的船位（不考虑风流影响）（）。

下列民族节日中，属于彝族的有（）。

用户设施指（）。

患者男，40岁。24小时前颊部外伤，全层组织缺损约3.5cm×4cm。清创后适合的缝合方式是（）