超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：多选
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

下面两个补码相减后是否会出现溢出?为什么?

装运电引爆管应采用木底棚车或P64型车，制动机须关闭。

初始土地登记的特点包括（）。

气密过程中最高压力要高于设备的操作压力。（）

耳胀、耳闭与脓耳的主要鉴别是（）

税务会计是以所涉税境的()为准绳，运用会计学的理论、方法和程序，对企业经营过程中的涉税事项进行计算、调整和税款缴纳、退补等，即对企业涉税会计事项进行确认、计量、记录和申报(报告)，以实现企业最大税收利益的一门专业会计。

三大基本估价方法不包括()。

尿培养发现结核杆菌的病人．下列哪项检查对进一步诊断和治疗最有意义（）

生存利益

用体积法计算混凝土的配合比时，必须考虑混凝土中的含气量。