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当前学科:半导体芯片制造高级工
题目:
填空题
钎焊密封工艺主要工艺条件有钎焊气氛控制、温度控制和密封腔体内()控制。
答案:
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无刻蚀镀铁是为了()而出现的镀铁新工艺。Ⅰ.提高镀铁质量;Ⅱ.发展镀铁工艺;Ⅲ.克服刻蚀处理的缺点;Ⅳ.提高镀铁效率;Ⅴ.简化工艺。
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