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当前学科:口腔设备学
题目:
单选
真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是()。
A . A.31~40℃
B . B.21~30℃
C . C.10℃以内
D . D.11~20℃
E . E.5℃
答案:
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