用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。
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