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常见问题
当前学科:半导体芯片制造中级工
题目:
单选
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A . 接触
B . 接近式
C . 投影
答案:
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某井井深4000米,在用钻井液密度1.35g/cm3。溢流关井数据为:关井立压4Mpa,关井套压7Mpa。如果低泵速压力为5Mpa(40SPM),下列压井参数正确的一组为()。
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