（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
（）的气体源中一般包含H⁺，C⁺，B⁺，Cl⁺，O⁺等离子。
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