对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
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