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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
单选
为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。
A . 磁分析器
B . 正交电磁场分析器
C . 静电偏转电极
D . 束流分析仪
答案：
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