当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 多选
    离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。

      A . 砷化氢
      B . 二硼化氢
      C . 三氟化硼
      D . 硅烷
      E . 氧气

    答案: <查看本题扣1积分>

    查看答案

    答案不对?请尝试站内搜索