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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
多选
离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。
A . 砷化氢
B . 二硼化氢
C . 三氟化硼
D . 硅烷
E . 氧气
答案:
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