表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。
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