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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
多选
离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。
A . 砷化氢
B . 二硼化氢
C . 四氟化硅
D . 三氟化磷
E . 五氟化磷
答案：
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