光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）_半导体芯片制造中级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造中级工

题目：单选
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

施工计划的提报、审批、下达及《行车设备施工（检查）登记簿》登、销记按（）执行。

什么是半导体？如何分类？其作用是什么？

手术体位不当可引起（）和（）两大类并发症。

方差分析中方差齐性检验常用的方法是（）

简析新闻收受的结果样式。

锅炉在投自动时要严格遵守以下顺序：送风机自动→氧量校正自动→引风机自动→燃料量自动。

主动安乐死是指（）。

微型计算机硬件系统中最核心的部件是( )。 (A) 主板(B) CPU (C) 内存储器 (D) I/O设备

弯曲是型钢沿垂直或水平方向呈现（）的现象。

同时见于完带汤和固冲汤中的饮片是（）