主页
学科
搜索
账户
常见问题
当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
单选
当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。
A . 温度
B . 硅-二氧化硅界面处的化学反应
C . 氧的扩散速率
D . 压力
答案：
<查看本题扣1积分>
查看答案
答案不对？请尝试站内搜索
推荐知识点:
下列说法错误的是（）
简要说明本地网的层次结构及各层采取什么样的拓扑结构。
关怀老师的代表知识青年踊跃参加抗日活动的作品是：()
电磁式电压互感器单项扣分大于等于40分，应评价为（）状态。
负荷下降，蒸汽流量减少会使加热器出水温度下降。
下列微生物中，属非细胞型微生物的是（）。
健康行为包括（）
略呈平行四边形，表面灰褐色，上面带状隆起明显，质硬而韧的药材是（）
以下指标哪个指标不属于发射机的主要指标（）