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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
单选
不可以对SiO
2
进行干法刻蚀所使用的气体是（）。
A . A.CHF
3
B . B.C
2
F
6
C . C.C
3
F
8
D . D.HF
答案：
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