不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
不可以对SiO₂进行干法刻蚀所使用的气体是（）。
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

以下属于信息技术的一般控制内容的有（）。

供酿酒用的葡萄干

患者，女，51岁。左侧甲状腺囊肿行颈丛神经阻滞过程中，突然出现意识消失。可能的原因是（）

临床上暑邪伤人容易出现气短、乏力等症状，其主要原因是（）

对于整个工程已接近完工只是尚未交付使用的在建工程，可采用（）评估。

新建城镇燃气管道中，必须采用防腐层辅以阴极保护的腐蚀控制系统的有()。

矿粒在水或其他液体介质中呈悬浮状态并均匀分布的混合物叫（）。

在禽类的脊柱中椎骨数目最多的是（）。

设两个均匀介质的界面是个平面，这两个介质的介电常数和磁导率分别为ε1、ε2和ε2、μ0，在介质1中有一平面单色电磁波沿垂直于界面的方向入射，其电场的振幅为E0，频率为ω，求： (1) 此电磁波的反射系数R及折射系数T，证明R+T=1； (2) 在介质1中距界面为，处的总电场，λ1是电磁波在介质1中的波长； (3) 在介质1中距界面为，处的能流密度。

患者，女，78岁。牙列缺失15年，牙槽嵴严重吸收。修复宜选用哪种人工牙（）